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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆开发厂最靠近华南区域,通常生产制造加工8寸大光电器件晶圆,日访问量废污水进行排放规范量约800吨。在生产制造加工方式中动用过多氢佛酸对其进行晶圆蚀刻,诱发废污河中氟化物浓硫酸浓度高达模型200-300mg/L,远超发达国家进行排放规范规范(10mg/L以上)。 电镀废水成分表及主要来源 废污水主要的来源于这几个重要环节: 晶圆蚀刻工步 :含高渗透压氟化物(HF)、氰化钠及少许巨资属 物理机械装备增加光泽(CMP)电镀废水 :含纳米技术级硅粒子、有机肥料络合剂 机器设备清洁生活污水 :含异丙醇、高锰酸盐指数等巧妙物 操作工艺技术步骤 进行"物理沉积+水泥混凝土沉积+进一步滤过"三级分销正确处理程序: 七级治理 :加药系统氯化钙和氢腐蚀钙,养成氟化钙奠定,氟化物快速清理率达85% 二次正确处理 :加入PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),快速清理固体态污染源物 三级分销治疗 :用多媒质过滤系统器和催化活性炭过滤器溶解,出水出水氟化物酸度稳定性在8mg/L下列 的关键机器设备还包括:pH自行调接平台、斜管凝固池、板框压滤设备(活性污泥出现脱水)。 结果英文效果好 投资项目正常运行五年期统计数据源数据源现示: 氟化物均浓硫酸浓度:7.2mg/L(底于国际标准) COD除掉率:92% 废水水分含量率:≤65% 年二手回收氟化钙副厂品约150吨,实现了市场化应用

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